检测与量测设备深度洞察研究报告

检测与量测设备的产业控制力已从单机分辨率竞争迁移为“传感/电子光学—算法—数据模型—fab缺陷数据库—工艺闭环—全球服务”的系统控制。KLA代表全栈控制，Lasertec在EUV掩模具有高度独特性，Applied Materials/Hitachi/Nova/Onto/Camtek分别占据电子束、CD、材料/光学和先进封装关键位。