光刻胶与光掩模_产业控制力研究结果

光刻胶与光掩模的产业控制力由‘材料化学/掩模制造能力—客户工艺窗口—缺陷数据库—变更管理—全球稳定供货’共同形成。High-NA EUV提高了随机缺陷、LER和mask 3D效应门槛，但成熟KrF/i-line与传统掩模仍提供长期稳定现金流和客户黏性。