SPIE Advanced Lithography + Patterning｜SPIE 先进光刻与图形化大会
全球光刻与图形化工艺领域最核心的学术与产业会议之一。
展会基本信息
时间：2027 年 1 月 30 日 - 2 月 4 日
地点：圣何塞（美国） · San Jose Marriott & San Jose Convention Center
主办方：SPIE
展会等级：S级
展会简介
SPIE Advanced Lithography + Patterning 是全球光刻与图形化工艺领域最具权威的学术与产业会议之一，长期聚焦先进制程所需的关键工艺与设备技术，包括EUV/DUV光刻、掩模与光学、光刻胶与材料、计量与缺陷检测、计算光刻与DFM等。该会议对先进芯片制造与AI计算硬件路线具有强指示意义，适合芯片制造、设备材料、EDA/计算光刻与相关研究团队进行技术趋势跟踪与合作对接。
覆盖行业
代表性品牌
英特尔、三星、英伟达展会亮点与趋势
先进制程关键工艺的“硬科技”风向标，光刻与计算光刻议题对AI芯片迭代至关重要。